自動清潔度檢測顯微鏡

組件與零部件的清潔對于生產(chǎn)工藝十分重要。對于開發(fā)、制造、批量生產(chǎn)以及成品質(zhì)量控制的所有流程，滿足對常見微觀尺寸污染物和異物顆粒的計數(shù)、分析和分類的高標準要求是非常重要的。由于顆粒污染物對于零部件的使用壽命存在直接影響，此前，使用殘留顆粒物的質(zhì)量來描述殘留物特征。當前使用的標準對諸如顆粒物數(shù)量、顆粒物尺寸分布以及顆粒物特征等污染屬性提出了更詳細的信息要求。

應(yīng)用領(lǐng)域：

汽車零部件、液壓潤滑、軸承、發(fā)動機、汽輪機、航空、半導體、數(shù)據(jù)存儲、醫(yī)療設(shè)備、通訊、精密儀表、大型工礦設(shè)備的磨損監(jiān)測等行業(yè)。

系統(tǒng)概括 流程化設(shè)計，操作更直觀

1、簡潔的界面，給您帶來流暢的操作體驗

3、背景校準

由于照明光源的不均勻可能導致成像四周暗圈，影響整體成像質(zhì)量，背景校準功能可以有效的避免這個問題。

4、自動拍照，圖像拼接

掃描過程自動拍照、自動保存，進度實時可見；照片信息存入數(shù)據(jù)庫，方便查詢。提供視場圖片瀏覽檢查功能。

5、統(tǒng)計、修改、多樣化結(jié)果顯示

系統(tǒng)自動識別顆粒、自動統(tǒng)計顆粒參數(shù)、自動分析顆粒類別，同時支持修改顆粒。提供多種結(jié)果展示工具。

6、自動識別金屬顆粒，非金屬顆粒，纖維

系統(tǒng)自動識別顆粒，可以同時檢查出非金屬顆粒，金屬顆粒，纖維。對三類顆粒進行檢查分類。 支持設(shè)置各種顆粒的合格區(qū)間。支持自定義三種顆粒的區(qū)分設(shè)置。

1）金屬在明場模式下表面會發(fā)光，在偏光模式顏色會呈現(xiàn)黑色。

2）非金屬顆粒在明場和偏光照明兩種模式下的圖像，灰度幾乎沒有變化。

3）軟件通過兩種模式下的圖像比對來區(qū)分金屬與非金屬。

4）纖維是依據(jù)顆粒長寬比及長度來定義的，可以是金屬，也可以是非金屬。

7、分析結(jié)果自動保存，可隨時調(diào)用

分析結(jié)果被自動保存在系統(tǒng)數(shù)據(jù)中，當遇到質(zhì)量問題需要追溯時，可隨時調(diào)用出來，支持變更顆粒標準重新分析。

8、專業(yè)清潔度報告

支持模板化報告生成模式，包含統(tǒng)計數(shù)據(jù)、評級、濾片全貌圖、顆粒照片等信息。

●中英文混排，表中包含全部/ 金屬顆粒分類數(shù)據(jù)

11、其他清潔度方案

12、設(shè)備選型

針對小檢測顆粒2um及油品清潔度檢測項目，我們同樣提供的解決方案。

13、清潔度系統(tǒng)升級：

公司是否已有一臺顯微鏡在用于材料分析或顯微觀察？請立即聯(lián)系品智創(chuàng)思的銷售人員，我們可以為您提供合理經(jīng)濟的升級方案。

                                                                      空白值

部件的清潔度檢測過程有可能將外部顆粒帶入分析結(jié)果，如果該顆粒比例太高，會導致一定量的誤判，從而導致檢測失敗，因此在實驗前必須確認空白值是否滿足該次實驗要求。

外部顆粒來源于以下幾個方面：

●清洗液和沖洗溶液

●萃取設(shè)備自身

●分析和清洗過程中的操作

●實驗環(huán)境和人員

●與實驗樣品有接觸的所有物體

   衰減實驗

目的：衰減實驗主要用來制定清潔度操作規(guī)范或當產(chǎn)品設(shè)計變更后驗證之前的操作規(guī)范是否依然適用。

操作步驟：

1、針對同樣的樣品或樣品組采用一致的實驗參數(shù)進行6次清洗，記錄每次實驗的數(shù)據(jù)信息。

2、計算每次實驗數(shù)據(jù)與數(shù)據(jù)總量的比值，滿足10%原則，則清洗參數(shù)有效。

3、如6次實驗后依然不能達到衰減的要求，則需要調(diào)整清洗參數(shù)或清洗方法，再次進行衰減實驗。

示例（以重量分析為例）